晶圆缺陷检测设备
WAFER DEFECT INSPECTION SYSTEM
Puristone晶圆缺陷检测设备,采用先进的图像识别技术和人工智能算法,能够快速、精准地识别晶圆表面的各种微观缺陷,确保每一片晶圆都符合最严格的质量标准。
产品介绍
PRODUCT INTRODUCTION
产品特点
PRODUCT FEATURES
灵活适配
本设备灵活适配6-12寸晶圆的检测,并支持客制化服务,支持晶圆类型有:Normal/透明/Frame /Taiko/减薄片。能为您提供更全面的解决方案。
高兼容性
标准配置支持2个单元,同时展现出卓越的兼容性,可适配多达3个不同类型的载体,包括FOUP/FOSB、Smif Pod、Open Cassette以及Frame Cassette,满足多样化的检测需求。
高精度
先进的10倍0.5微米分辨率的8K TDI(Time Delay and Integration)线扫相机,能够以前所未有的精度捕捉晶圆表面的微小细节。这一高精度成像技术确保了检测过程中的每一个细节都不被遗漏,为晶圆制造提供了可靠的质量控制手段。
高吞吐量
集成了自主研发的大视场光学系统与大靶面相机,这一黄金组合为精准检测奠定了坚实基础。
2X明场检测:专为12寸晶圆设计,以2.5微米的高精度分辨率,轻松实现每小时110片晶圆(WPH)的检测速度。
2X暗场检测:针对0.5微米的微小缺陷,在12寸晶圆上,同样达到了每小时110片晶圆的高效处理速度。
产品案例
PRODUCT CASES
划痕
过蚀刻
断路
短路
颗粒
残留